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生産設備

主要⽣産設備

反応

設備 仕様 容量
反応⽸(GL) 常圧〜60mmHg
-10〜140℃(⼀部200℃迄可)
50〜10,000L
反応⽸(SUS) 常圧〜60mmHg
-10〜140℃(⼀部200℃迄可)
100〜10,000L
反応⽸(QVF) 常圧〜20mmHg
〜140℃
200L
オートクレープ⽸(SUS) 〜9.5atm以下
〜120℃
3,000L、300L

ろ過・乾燥

設備 仕様 容量
遠⼼分離機 SUS 42〜48吋
ヌッチェ SUS、GL、ハステロイ 〜2m2
密閉型ろ過乾燥機 GL、SUS、ハステロイ 濾過⾯積 1.5m2〜4m2
遊星運動形混合乾燥機 SUS、常圧、真空 300L〜2,000L
コニカル乾燥機 SUS 4,000L
箱型乾燥機 常圧、常温〜90℃

その他

設備 仕様 容量
液体窒素 タンク 20m3
排⽔処理
(最終活性炭吸着塔処理)
活性汚泥法
1,300kgBOD/day
原⽔槽︓600m3
曝気槽︓1,500m3
有害ガス除去 酸性ガス処理
アンモニアガス処理
〜10トン